如图1所示,MOSFET器件分为增强型和耗尽型两大类。
图1. MOSFET家族树
增强型器件:当栅极-源极电压VGS=0V,其导电沟道尚未形成,器件处于关断状态。当栅极-源极电压VGS>(+)VTH时(N沟道)或VGS<(-)VTH(P沟道),其导电沟道因反型而形成,器件处于开通状态。由于在零偏时,器件处于关断状态,增强型器件又称为“常关”(Normally Off)器件。
耗尽型器件:当栅极-源极电压VGS=0V,其导电沟道即已存在,器件处于开通状态。当栅极-源极电压VGS<(-)VGS(OFF)时(N沟道)或VGS>(+)VGS(OFF)(P沟道),其导电沟道因耗尽而消失,器件处于关断状态。由于在零偏时,器件处于导通状态,耗尽型器件又称为“常开”(Normally On)器件。
由此可见,增强型器件和耗尽型器件最主要的差别是阈值电压。以ARK(方舟微)的150V, N沟道增强型MOS管器件FTP0P1N15G为例,其阈值电压(也称作开启电压,表示为VGS(TH))VGS(TH)(Min.)为+2.5V;耗尽型MOS管的阈值电压(也称作关断电压,表示为VGS(OFF))为负值。以ARK(方舟微)的850V, N沟道耗尽型MOS管DMS8550E为例,阈值电压在-4V~-1.2V,其电阻RDS(ON)(Typ.)为45Ω,。图2示意性地给出了两种器件的转移特性曲线。可以看出,当VDS=5V且VGS=0V时,增强型器件处于关断状态,其漏-源泄漏电流IDSS=0mA,而耗尽型器件处于导通状态,其漏-源电流IDSS=45mA。

图2. 增强型和耗尽型MOS管的转移特性曲线
增强型和耗尽型器件均有横向结构(Lateral Structure)和垂直结构(Vertical Structure)两种,如图3所示。

图3. 横向结构器件和垂直结构器件
横向结构:漏极位于芯片表面,电流在芯片表面横向流动,如图3(a)所示。横向结构易于集成,其密勒电容较小,可以实现更高的频率。垂直结构:漏极位于芯片背面,电流在芯片内部垂直流动,如图3(b)所示。垂直结构充分利用了芯片面积,单位面积的导通电阻更小,具有更高的电流密度,因此非常适用于功率器件。ARK(方舟微)的耗尽型MOS管DMS8550E即采用了此种结构。
增强型和耗尽型器件按沟道导电类型分,又可分为N沟道和P沟道器件。N沟道器件:导电沟道为N型,参与导电的主要是电子;P沟道器件:导电沟道为P型,参与导电的主要是空穴。
由于电子的迁移率远高于空穴,N沟道器件具有更强的电流处理能力,得到了更广泛地运用。